반도체 산업폐수 정화 신기술 개발

고농도 질소·인·불소 동시제거…기술적·경제적 실효성 높아

 

2010년 06월 24일 (목)

 

한국환경산업기술원(원장 김상일)은 반도체 산업폐수에서 발생하는 고농도의 질소·인·불소를 신속하고 효율적으로 제거하는 기술을 개발했다고 6월24일 전했다.

 

이번에 개발한 고농도 질소·인·불소 동시제거 시설은 기존 반도체 산업폐수 처리 시설에 비해 처리시간이 짧아 현장 시공성 및 공간 활용 능력을 크게 향상시켰다는 평가다.

 

이 시설은 폐수 중에 존재하는 질소, 인 및 불소 성분을 불화칼슘(CaF2) 및 스트루바이트(Struvite, 유리결정형성)로 결정화해 제거하는 공법을 함께 적용시켜 수질을 개선함과 동시에 유기부산물인 스트루바이트를 퇴비로 사용할 수 있으며, 기존 화학처리 공법의 응집제 대체물질 개발을 통한 처리비용 절감이 가능할 전망이다.

 

특히, 고농도의 질소·인·불소가 함유된 폐수에서 총질소(T-N) 30㎎/L, 총인(T-P) 2㎎/L, 불소(F) 5㎎/L이하까지 처리할 수 있고, 슬러지의 재사용을 통한 경제성을 확보할 수 있다.

 

성진엔지니어링(주) 이정훈 박사팀과 충북대학교 환경공학과 이상일 교수팀이 공동으로 개발한 이 기술은 환경부(장관 이만의)와 한국환경산업기술원이 추진하는 차세대 핵심환경기술 개발사업의 지원을 받아 수행됐으며 충청북도 청주시 공단에 위치한 반도체 사업장에서 배출되는 폐수에 적용, 장기간 처리 시설 운전을 통해 우수하고 안정적인 처리 효율을 달성했다.

 

한편, 지난 2003년 1월부터 배출수의 총질소(T-N) 규제가 확대 시행됨에 따라 최종 배출수의 총 질소를 60 ㎎/L(or 30㎎/L) 이하로 관리해야 하는 업체에서는 총 질소 처리설비에 투자 또는 고농도 폐액을 수집 후 위탁 처리했다.

 

또한, 지난 2008년에 총질소 규제가 40㎎/L, 오는 2012년 20㎎/L 등 향후 지속적으로 관련규제가 강화될 전망인 만큼 이번 연구의 의미가 크다하겠다. 불소 역시 현재 15㎎/L(일부지역 3㎎/L) 규제로 인한 환경비용(폐수 및 위탁처리) 증가로 관련 업계의 원가 경쟁력을 크게 악화시키는 주요 요인으로 알려져 있다.

 

성진엔지니어링 이정훈 박사는 “이번에 개발한 고농도 질소·인·불소 동시제거 기술은 전자·전기 산업폐수 배출업종 뿐만 아니라 악성산업폐수를 방출하고 있는 산업체의 폐수처리에 기술적·경제적 실효성 있게 응용할 수 있는 기술”이라고 말했다.