¿õÁøÄɹÌÄ®¢ß, ¸¶ÀÌÅ©·ÎÇÊÅÍ »ç¾÷ º»°ÝÈ
2011³â 12¿ù 13ÀÏ (È) |
|
|
¿õÁøÄɹÌÄ®¢ß(´ëÇ¥ÀÌ»ç ¹ÚÂù±¸)°¡ ¸¶ÀÌÅ©·ÎÇÊÅÍ »ç¾÷À» º»°ÝÈÇÑ´Ù°í Áö³ 12¿ù8ÀÏ ¹àÇû´Ù.
¿õÁøÄɹÌÄ®¢ß´Â Áö³ 12¿ù7¡9ÀϱîÁö ¿¸° ¼¼°è ÃÖ´ë ±Ô¸ðÀÇ ¹ÝµµÃ¼ Á¦Á¶ÀåÄ¡ Àü½ÃȸÀÎ ¡®SEMICON JAPAN 2011¡¯¿¡ Âü°¡ÇØ ¡®CMP(Chemical Mechanical Polishing)ÇÊÅÍ¡¯, ¡®¿øÅÍÄ¡ÇÊÅÍ¡¯, ¡®°¡½ºÇÊÅÍ¡¯ ¹× ¡®»ê¾÷¿ë ¿¡¾îÇÊÅÍ¡¯ µî °¢Á¾ ½ÅÁ¦Ç°µéÀ» ´ë°Å ¼±º¸¿´´Ù.
¿õÁøÄɹÌÄ®¢ßÀº À̹ø Àü½Ãȸ¸¦ ÅëÇØ ±¹³» ÃÖÃÊ ³ª³ë±ÞÀ¸·Î °³¹ßÇØ ±¹»êÈÇÑ CMPÇÊÅÍ¿Í Å»ÀåÂøÀÌ °£ÆíÇÑ ¿øÅÍÄ¡ÇÊÅÍ, °íÈ¿À² ¹× °íÀ¯·®ÀÇ ¼¼°è ÃÖ°í Ç°ÁúÀ» ÀÚ¶ûÇÏ´Â °¡½ºÇÊÅÍ Á¦Ç° µîÀ» º»°ÝÀûÀ¸·Î È«º¸ÇÔÀ¸·Î½á, ¾ÕÀ¸·Î ½Å¼ºÀå »ç¾÷ÀÎ ¸¶ÀÌÅ©·ÎÇÊÅÍ »ç¾÷¿¡ ¹ÚÂ÷¸¦ °¡Çß´Ù.
¸¶ÀÌÅ©·ÎÇÊÅÍ´Â ¹ÝµµÃ¼, LCD, Á¦¾à »ê¾÷ µîÀÇ »ý»ê°øÁ¤¿¡¼ °¢Á¾ À̹°ÁúÀ» °É·¯³»´Â µ¥ »ç¿ëµÇ¸ç Àü ¼¼°è ½ÃÀå±Ô¸ð´Â ¾à 10Á¶ ¿ø¿¡ ´ÞÇÑ´Ù.
¿õÁøÄɹÌÄ®¢ßÀº ±Û·Î¹ú ÆǸÅÈ°µ¿À» °ÈÇÏ°í ÀÖ´Â ¿ª»ïÅõÇÊÅÍ »ç¾÷°ú ¸¶ÀÌÅ©·ÎÇÊÅÍ »ç¾÷ÀÌ »ó½Â È¿°ú¸¦ ³¾ ¼ö ÀÖµµ·Ï ÇÔ²² »ç¾÷ÈÇÏ°í ¡®±Û·Î¹ú Á¾ÇÕ ÇÊÅ͸ÞÀÌÄ¿¡¯·Î¼ÀÇ È®°íÇÑ ÀÔÁö¸¦ ±¸ÃàÇÒ °èȹÀÌ´Ù.
¿õÁøÄɹÌÄ®¢ß ¹ÚÂù±¸ ´ëÇ¥ÀÌ»ç´Â ¡°Áö³ 13³â°£ ¸¶ÀÌÅ©·ÎÇÊÅÍ »ç¾÷À» ÇØ ¿ÔÁö¸¸, ÇÙ½É ¿øÀç·áÀÎ ÇÊÅÍ ¼ÒÀç(¿©Àç)´Â ¼öÀÔÇؼ Á¶¸³ÇÏ´Â »óȲÀ̾ú´Ù¡±¸ç ¡°±×·¯³ª Áö±ÝÀº ¸¶ÀÌÅ©·ÎÇÊÅÍ ¼ÒÀç°³¹ß¿¡µµ ¼º°øÇÔÀ¸·Î½á, Á¦Ç°ÀÇ ±¹»êÈ´Â ¹°·Ð, »ý»ê¿ø°¡¸¦ ȹ±âÀûÀ¸·Î Àý°¨ÇÒ ¼ö ÀÖ´Â µî °æÀï·ÂÀÌ ´õ¿í ³ô¾ÆÁ³´Ù¡±°í °ÇÑ ÀڽۨÀ» µå·¯³Â´Ù.
ÇÑÆí ¹Ì±¹°ú ÀϺ»¿¡ À̾î Áö³ 1994³â ±¹³» ÃÖÃÊ·Î ¿ª»ïÅõÇÊÅÍ °³¹ß¿¡ ¼º°øÇÑ ¿õÁøÄɹÌÄ®¢ß´Â ±¹³» ¿ª»ïÅõºÐ¸®¸· ½ÃÀåÀÇ ¾à 60% ÀÌ»óÀ» Á¡À¯ÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç, ÇØ¿Ü 50¿©°³±¹ ÀÌ»ó¿¡ °¡Á¤¿ë ¹× »ê¾÷¿ë ¿ª»ïÅõÇÊÅÍ Á¦Ç°À» ¼öÃâÇÏ°í ÀÖ´Ù.
¶ÇÇÑ ¿õÁøÄɹÌÄ®¢ß´Â À̹ø ¸¶ÀÌÅ©·ÎÇÊÅÍ Á¦Ç°»ç¾÷À» º»°ÝÈÇÔÀ¸·Î½á, Àüü ÇÊÅͺι®¿¡ ÀÖ¾î ¸ÅÃâÀ» 2011³â 1õ200¾ï ¿ø, 2013³â 2õ100¾ï ¿øÀ¸·Î È®´ëÇØ ³ª°¥ °èȹÀÌ´Ù.