[일본] 쿠리타, 고순도 초순수 생산용 ‘KR-FM 수지’ 북미 진출

쿠리타 워터 인더스트리((Kurita Water Industries Ltd.)가 고순도 초순수 생산용 기능성 소재 ‘KR-FM 수지’로 북미에 진출했다.

쿠리타는 첨단 반도체 제조공정의 수율 향상과 안정적 운영을 위해 설계된 ‘KR-FM 수지(resin)’를 최근 북미 지역에 납품했다고 지난 1월 17일 밝혔다. 그간 쿠리타는 주로 일본을 포함 아시아 지역을 중심으로 KR-FM 수지를 홍보했기 때문에 이번 북미 지역 진출은 북미 수처리 시장 진출에 첫 신호탄을 쏜 것으로 의미를 둘 수 있다는 게 관계자 설명이다.

초순수는 반도체 제조 공정에서 세척에 필수 불가결한 요소다. 반도체는 전자 제품 및 데이터 센터 장비에 널리 사용된다. 초순수는 이온교환수지, UF 멤브레인 및 기타 기능성 소재를 갖춘 수처리 시스템에 의해 생성된다.

최근 반도체 고성능화, 미세화에 대한 요구가 높아짐에 따라 고순도 초순수가 점점 더 필요해지고 있다. 하지만 UF 멤브레인은 기존 이온교환수지에서 미세 입자를 완전히 제거해 주지 못한다는 한계가 있다.

KR-FM 수지는 쿠리타가 반도체 산업용 고순도 초순수 생산 시스템을 위해 미쯔비시 케미컬 코퍼레이션(Mitsubishi Chemical Corporation)과 공동으로 개발한 이온교환수지로, 초순수 제조공정에 적용했을 때 미세 입자가 거의 발생하지 않는 것이 큰 특징이다.

초순수 생산설비에 적용 시 고순도 초순수를 성공적으로 생산할 수 있고, 제조공정에서 발생하는 유기물 및 금속이온, 또 초순수 순도에 영향을 미치는 미세 입자 및 기타 불순물을 효과적으로 제거한다.

결과적으로 반도체 제조공정의 수율을 높이고 안정적인 운영을 달성하는 데 도움이 될 수 있다.

쿠리타는 이번 기회를 통해 반도체 산업의 생산기술 고도화에 기여하는 기술인 KR-FM 수지의 해외 진출에 박차를 가할 예정이라고 밝혔다.

[원문보기]

Kurita Accelerates Overseas Promotion of Functional Materials for High Purity Ultrapure Water Production to Help Advance Production Technologies in Semiconductor Industry

Kurita Water Industries Ltd. (Head Office: Nakano-ku, Tokyo; President: Michiya Kadota; hereinafter "Kurita") is pleased to announce that the KR-FM resin, a functional material for high purity ultrapure water production designed for yield improvement and stable operation of cutting-edge semiconductor manufacturing, has recently been adopted in North America amid its efforts to help customers improve production efficiency and product quality for the purposes of advancing industrial production technologies.

The KR-FM resin is a functional material, specifically an ion exchange resin, jointly developed with Mitsubishi Chemical Corporation for high purity ultrapure water production systems for the semiconductor industry. Its key feature is that it generates very little fine particles when it is applied to the ultrapure water production process.

Ultrapure water is indispensable to cleaning in the semiconductor manufacturing process.

Semiconductors are widely used in electronic products and data center equipment. Ultrapure water is produced by water treatment systems equipped with ion exchange resins, UF membranes and other functional materials. However, given a recent trend towards higher performance and finer semiconductors to meet diversifying needs, high purity ultrapure water has been in demand. It is difficult for UF membranes to completely remove fine particles from conventional ion exchange resins. That poses a problem in using conventional functional materials for the production of ultrapure water.

In contrast, the application of the KR-FM resin jointly developed by Kurita to ultrapure water production facilities leads to the successful production of high purity ultrapure water and a reduction in organic substances and metal ions generated in the manufacturing process, as well as in fine particles and other impurities affecting the purity level of ultrapure water.

Consequently, the resin is expected to help increase the yield and achieve stable operation of cutting-edge semiconductor manufacturing. Kurita won a technology award from the Japan Society of Ion Exchange for this technology in October 2021.

Formerly, Kurita promoted the KR-FM resin chiefly to customers based in Japan and the rest of Asia. However, a large semiconductor manufacturer based in North America has recently adopted this resin in recognition of its capability to reduce fine particles and other impurities in ultrapure water.

Kurita will take advantage of this occasion to speed up the overseas rollout of the KR-FM resin, a technology that contributes to advancement of production technologies in the semiconductor industry.

[출처 = Kurita(https://www.kurita.co.jp/english/aboutus/press220117.html) / 2022년 1월 17일]