Ãʼø¼ö Á¦Á¶±â¼ú ƯÇ㵿Çâ
°æÁ¦¹ßÀü°ú ´õºÒ¾î »ê¾÷ÀÇ ¸¹Àº ºÐ¾ß¿¡¼ ¼ø¼ö ¹× Ãʼø¼öÀÇ »ç¿ëÀÌ Áõ°¡ÇÏ°í ÀÖÀ¸³ª, ȯ°æ¿À¿°¿¡ ÀÇÇÑ ¿ø¼öÀÇ ¿À¿°¿¡ µû¶ó ¼ø¼ö ¹× Ãʼø¼ö Á¦Á¶ÀÇ ÀåÄ¡ºñ¿Í 󸮺ñ¿ëÀÌ Áõ°¡°¡ ¾ß±âµÇ°í ÀÖ´Ù.
ÇöÀç ±¹³»¿¡´Â ȷ¡¤¿øÀڷ¹ßÀü¼Ò¸¦ ºñ·ÔÇÏ¿© ¿º´ÇÕ¹ßÀü¼Ò, ¼®À¯ÈÇаøÀå, Á¦¾àȸ»ç, Àü±â¡¤ÀüÀÚºÎǰȸ»ç, ¹ÝµµÃ¼È¸»ç ¹× ö°È¸»ç µî ¸¹Àº ºÐ¾ß¿¡¼ ¼ø¼ö ¹× Ãʼø¼ö¸¦ »ç¿ëÇÏ°í ÀÖÀ¸¸ç, °¢ ¾÷üÀÇ »ý»ê °øÁ¤ÀÇ Æ¯¼º¿¡ ÀÇÇØ ¼ø¼ö ¹× Ãʼø¼ö Á¦Á¶ÀåÄ¡ÀÇ ±¸¼º°ú ¼º´ÉÀÌ ¸¹Àº Â÷À̸¦ ³ªÅ¸³»°í ÀÖ´Ù.
¼ø¼ö¶õ ¼öÁßÀÇ ÀüÇØÁú, À¯±âÁú, ¹Ì»ý¹°, ºÎÀ¯¼º °íÇü¹°Áú µîÀÇ ºÒ¼ø¹°À» À̿±³È¯¹ý, ¿ª»ïÅõ¾Ð¹ý, Áõ·ù¹ý µîÀÇ Á¦°ÅÀåÄ¡¸¦ ÀÌ¿ëÇÏ¿© Á¦°ÅÇÑ ¹°À» ¸»Çϸç, Ãʼø¼ö¶õ ¼ø¼ö¿¡ ³²¾ÆÀÖ´Â À̿±îÁöµµ ¿Ïº®ÇÏ°Ô Á¤Á¦ÇÑ ¹°À» ¸»ÇÑ´Ù.
Ãʼø¼ö¿Í ¼ø¼öÀÇ °æ°è´Â ¸íÈ®ÇÏÁö´Â ¾Ê°í »ç¿ëµÇ´Â ºÐ¾ß¿¡ µû¶ó ¿ä±¸µÇ´Â ¼öÁú¿¡ ´Ù¼Ò Â÷ÀÌ°¡ ÀÖÁö¸¸ ÀüÀÚ°ø¾÷¿¡¼ »ç¿ëµÇ´Â Ãʼø¼öÀÇ ¼öÁúÀÌ ÀÌÁß¿¡¼ ÃÖ°íÀÇ µî±ÞÀ¸·Î¼ ASTM(American society for testing materials) ¹× SEMI(Semiconductor Equipment and Material Institute)°¡ Á¦½ÃÇÑ ±âÁØÄ¡´Â <Ç¥ 1>°ú °°´Ù.
<Ç¥ 1. ÀüÀÚ°ø¾÷¿ë Ãʼø¼öÀÇ ¼öÁú>
µû¶ó¼ Ãʼø¼ö Á¦Á¶ÀåÄ¡ÀÇ ÀÀ¿ëÀº »ç¿ë¸ñÀû ¹× ¿ä±¸µÇ´Â ¼öÁú¿¡ µû¶ó SystemÀÇ ¼±ÅÃÀû ¼³°è°¡ ÇÊ¿äÇϸç, ¸ñÀû¿¡ ÀûÇÕÇÑ Ãʼø¼ö¸¦ Áö¼ÓÀûÀ¸·Î »ý»êÇϱâ À§Çؼ´Â ÀåÄ¡ÀÇ ¿îÀü ¹× À¯Áö°ü¸®°¡ ¿ëÀÌÇÏ¿©¾ß ÇÑ´Ù.
¶ÇÇÑ Á¤±³ÇÑ System¿¡ ÀÇÇØ »ý»êµÈ Ãʼø¼ö´Â ÁÖÀ§È¯°æ ¹× Á¶°Ç¿¡ ÀÇÇØ ¹Î°¨ÇÑ º¯È¸¦ °¡Á®¿Ã ¼ö ÀÖÀ¸¹Ç·Î ÀÌÀÇ º¸Á¸ ¹× °ü¸®¿¡ ÀÖ¾î¼ ¼¼½ÉÇÑ ÁÖÀÇ°¡ ¿ä±¸µÈ´Ù. <±×¸² 1>Àº ÀϹÝÀûÀÎ Ãʼø¼ö Á¦Á¶ÀåÄ¡ÀÇ Flow DiagramÀÌ´Ù.
Ãʼø¼ö Á¦Á¶ÀåÄ¡´Â ¼ø¼ö Áß¿¡ Á¸ÀçÇÏ´Â ºÒ¼ø¹°À» Á¦°ÅÇÏ¿© Ãʼø¼ö±îÁö PolishingÇϴµ¥ ÀÖ´Ù. À̸¦ À§ÇØ È¤½Ã Á¸ÀçÇÒÁö ¸ð¸£´Â ÀÌ¿ÂÀ» Á¦°ÅÇϱâ À§ÇÑ Polisher, ¹ÚÅ׸®¾ÆÀÇ »ì±ÕÀ» À§ÇÑ Àڿܼ± »ì±Õ±â ¹× ÃÖÁ¾ÀûÀÎ ¹Ì¸³ÀÚ¸¦ Á¦°ÅÇÏ´Â MF³ª UF µîÀÇ ¸·ºÐ¸® ÀåÄ¡¸¦ Á¶¸³ÇÏ¿© ±¸¼ºÇÑ´Ù.
<±×¸² 1. Ãʼø¼ö Á¦Á¶ÀåÄ¡ Flow Diagram>
[¿ø¹®Àº ÆÄÀÏ÷ºÎ ÂüÁ¶]